皮膚のシワ形成メカニズム解明！新抗シワ剤の開発に期待

シワの原因を解明した画期的な研究

最近、株式会社トゥヴェールが大阪府箕面市の代表取締役社長、森山義彦氏のもと、宇都宮大学の芋川玄二特任教授と共同で行った研究が注目されています。この研究は、皮膚のシワを引き起こすエラスターゼの一種、ネプリライシンの発現メカニズムを解明したもの。この情報は、皮膚科医向けの専門誌『The Journal of Dermatology』に掲載され、大きな話題となっています。

ネプリライシンとは？

ネプリライシンは紫外線によってダメージを受けた皮膚線維芽細胞や老化した真皮線維芽細胞で豊富に存在し、皮膚の弾力性を損なう原因となっています。この酵素は、皮膚の構造を支えるエラスチン線維を切断し、シワを生じさせることが知られています。また、ネプリライシンの生産は、UVBにさらされる表皮細胞から放出されるインターロイキン1αにより刺激され、線維芽細胞での発現が増強されることが今回の研究で明らかになりました。

研究の成果と意義

この研究では、IL-1αによる刺激が真皮の線維芽細胞内でどのようにネプリライシンの発現を促すのかを詳しく分析しました。その結果、ERK/JNK/c-Jun/c-Fos/AP-1という細胞内シグナル伝達カスケードが関与していることが分かりました。また、多くの天然素材や化学物質がこのシグナル伝達因子に対する阻害効果を示すことが判明したため、今後新しい抗シワ剤の開発が期待されます。